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- ASML
Tasa de mercado del 80-85 %.
Líder absoluto en la industria, especialmente en litografía de extrema ultravioleta (EUV). ASML tiene un monopolio en la tecnología EUV, clave para la fabricación de chips avanzados de 7 nm, 5 nm y 3 nm. Su liderazgo en litografía avanzada le otorga una enorme participación de mercado. - Nikon
Tasa de mercado del 10-12 %
Principal competidor de ASML, pero se enfoca en tecnologías más antiguas de litografía basada en luz ultravioleta (UV). No tiene presencia en la litografía EUV avanzada, por lo que su mercado está limitado a procesos de fabricación de chips menos avanzados (como 14 nm y 10 nm). - Canon
Tasa de mercado del 3-5%
Competidor en litografía UV, pero su participación es pequeña y no cuenta con tecnología EUV. Canon fabrica equipos para procesos de litografía de chips menos avanzados, lo que le da una participación limitada en el mercado global. - SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment)
Tasa de mercado inferior al 1 %
Competidor emergente en el mercado de litografía, especialmente en China. SMEE aún no tiene la capacidad para competir con ASML en litografía avanzada, especialmente en EUV. Su tecnología está orientada a procesos de fabricación de chips menos avanzados.
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